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       本公司新开发的以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点,适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。产品使用方便、悬浮性好,抛光效率高、抛光精度达到纳米级,质量稳定可靠。
 典型产品型号如下,也可根据用户需要配制不同浓度和不同粒度的氧化铈研磨液。
型号
粒度(D50,μm)
浓度(wt%)
天天彩票的网址主要用途
DT-CO-2
2-2.5
20
MTRJ研磨,玻璃抛光
DT-CO-1
1.6-1.8
20
MTRJ研磨,玻璃抛光
DT-CO-1/2
0.5-0.8
20
抛光
注意事项:
1. 使用前请先摇匀;
2. 使用时,可用少量的水加以稀释。
包    装:500 ml/瓶。
储    存:本品需在0 ℃以上储存,防止结冰,在0 ℃以下因产生不可再分散结块而失效。
安全信息:详见本产品的材料安全信息(MSDS)。
应用范围:
1、硅晶圆片抛光;锗片抛光;砷化镓抛光;磷化铟抛光;光学晶体抛光;蓝宝石衬底抛光;

2、LED衬底抛光;硒化锌抛光;光纤连接器抛光;光纤跳线抛光;玻璃抛光;石英抛光;